(相关资料图)

近日，据纳设智能官微消息，纳设智能成功研制出更大尺寸具有更多创新技术的 8英寸碳化硅外延设备 。据悉，该设备具备 独特反应腔室设计、可独立控制的多区进气方式 、以及 智能的控制系统 ，将更好的提高外延片的均匀性，降低外延缺陷及生产中的耗材成本。

纳设智能开发的8英寸碳化硅外延设备顺应了产业向更大尺寸的发展趋势，在技术上具有前瞻性，同时能够向下 兼容6英寸外延 ，符合当前市场对于6英寸和8英寸兼容的需求。

具体来看，纳设智能持续围绕提升工艺指标、降低耗材成本和维护频次方面进行产品的迭代优化，不断在反应室系统，气体输运系统和整体软件系统等方面进行技术创新。

目前，纳设智能已实现8英寸碳化硅外延设备的交付， 该设备在客户现场生产的外延片厚度不均匀性≤2%，浓度不均匀性~4%，表面粗糙度≤0.3cm-2，缺陷控制良好。

订单方面，据纳设智能首席营销官李小天在行业会议上透露，纳设智能6英寸碳化硅外延设备在国内市场中占据重要地位， 截止目前，累计获得10+个客户超过150台设备订单，订单金额累计数亿元。

纳设智能创立于2018年，致力于第三代半导体、碳纳米材料等先进材料制造设备的研发及产业化，技术处于国内领先水平。核心团队由世界著名半导体设备公司的科学家、剑桥大学博士和材料设备领域资深专家组成。公司自有第三代半导体碳化硅外延设备研发技术荣登“科创中国”先导技术榜单。公司认证有ISO9001质量管理体系及售后服务体系，于2020年被评定为具有高成长性的“国家高新技术企业”，2022年荣获深圳市“专精特新”中小企业认定。

纳设智能以市场需求为导向研发新装备，解决一批核心问题，形成一批自有技术，相关技术指标的突破，标志着纳设智能已成功掌握8英寸SiC外延设备相关技术，可为行业提供更为先进的技术支持，进一步提高我国碳化硅产业自主创新能力，促进第三代半导体产业的发展。

来源：纳设智能